Growth of Vertically Aligned Carbon Nanotubes inside Dome-structured Amorphous Silicon Holes by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003, Vol.42 (Part 1, No. 3), p.1414-1415
Hauptverfasser:	Park, Young Jun, Han, In Taek, Kim, Ha Jin, Lee, Nae Sung, Jin, Yong Wan, Kim, Jung Woo, Jung, Jae Eun, Park, Chong Yun, Kim, Jong Min
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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