Hydrogen Diffusion and Chemical Reactivity with Water on Nearly Ideally H-terminated Si(100) Surface

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2002, Vol.41 (Part 1, No. 6B), p.4275-4278
Hauptverfasser:	Wang, Zhi-Hong, Noda, Hideyuki, Nonogaki, Youichi, Yabumoto, Norikuni, Urisu, Tsuneo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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