10–15 nm Ultrashallow Junction Formation by Flash-Lamp Annealing

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2002-04, Vol.41 (Part 1, No. 4B), p.2394-2398
Hauptverfasser:	Ito, Takayuki, Iinuma, Toshihiko, Murakoshi, Atsushi, Akutsu, Haruko, Suguro, Kyoichi, Arikado, Tsunetoshi, Okumura, Katsuya, Yoshioka, Masaki, Owada, Tatsushi, Imaoka, Yasuhiro, Murayama, Hiromi, Kusuda, Tatsuhumi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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