Dislocations and tungsten concentration profiles in tungsten-silicon contact areas
Dislocation formation and impurity distributions in metal-silicon contact areas were investigated by means of cross-sectional transmission electron microscopy (TEM) images and energy-dispersive X-ray measurement. Dislocations were formed in the (111) plane in the [110] direction by annealing at 700°...
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Veröffentlicht in: | Japanese Journal of Applied Physics 1993-08, Vol.32 (8), p.3335-3337 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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