Dislocations and tungsten concentration profiles in tungsten-silicon contact areas

Dislocation formation and impurity distributions in metal-silicon contact areas were investigated by means of cross-sectional transmission electron microscopy (TEM) images and energy-dispersive X-ray measurement. Dislocations were formed in the (111) plane in the [110] direction by annealing at 700°...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 1993-08, Vol.32 (8), p.3335-3337
Hauptverfasser: AOYAMA, T, KOIKE, Y, SUZUKI, M, MISAWA, Y, SUZUKI, T
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!