Growth and Separation of High Quality GaN Epilayer from Sapphire Substrate by Lateral Epitaxial Overgrowth and Wet Chemical Etching
We report the growth and separation of a high quality GaN epilayer from a sapphire substrate using lateral epitaxial overgrowth (LEO) and a wet chemical etching process. A high quality GaN epilayer was grown by the LEO method using a SiO 2 -coated tungsten (W) mask. The LEO GaN epilayer was separate...
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Veröffentlicht in: | Applied physics express 2011-01, Vol.4 (1), p.012104-012104-3 |
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Hauptverfasser: | , , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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