Low Temperature Phosphorus Activation in Germanium through Nickel Germanidation for Shallow n + /p Junction

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics express 2009-02, Vol.2, p.21202
Hauptverfasser:	Nishimura, Tomonori, Sakata, Shuichi, Nagashio, Kosuke, Kita, Koji, Toriumi, Akira
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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