I–V characteristic of p-n structures based on a continuous solid solutions (Si2)1 − xx(CdS)x
The I–V characteristics of the p -Si- n -(Si 2 ) 1 − x (CdS) x (0 ≤ x ≤ 0.01) structures are investigated at various temperatures. It is found that the I–V characteristic of such structures has a sublinear portion of the current growth with voltage V ≈ V 0 exp( JaW ). The experimental results can be...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Semiconductors (Woodbury, N.Y.) N.Y.), 2009-04, Vol.43 (4), p.416-418 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!