Argon-oxygen ion-plasma treatment modifies the surface composition and photoluminescence spectrum of porous silicon

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Technical physics letters 2000-01, Vol.26 (10), p.919-922
Hauptverfasser:	Kostishko, B. M., Drozdov, A. V., Shibaev, P. V., Kostishko, A. E.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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