Chromium as an antidiffusion interlayer in higher manganese silicide-nickel contacts

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Technical physics 2000-01, Vol.45 (5), p.641-643
Hauptverfasser:	Petrova, L. I., Dudkin, L. D., Khlomov, V. S., Fedorov, M. I., Zaitsev, V. K., Solomkin, F. Yu
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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