High density plasma chemical vapor deposition gap-fill mechanisms

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena, 2006-03, Vol.24 (2), p.L11-L15
Hauptverfasser:	Mungekar, Hemant P., Lee, Young S.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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