Performance Optimization for Ferroelectric HfZrO x on a Ge Substrate by Modifying the Deposition Temperature

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	IEEE transactions on nanotechnology 2024, Vol.23, p.139-143
Hauptverfasser:	Lyu, Shuxian, Jiang, Pengfei, Gao, Zhaomeng, Yang, Yang, Chen, Yuanxiang, Wang, Boping, Chen, Meiwen, Wang, Yuan, Chen, Yuting, Wang, Yan
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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