Formation of Hump Effect Due to Top-Gate Bias Stress in Organic Thin-Film Transistors
This study investigated the reliability of top-gate p-type organic thin-film transistors in vacuum under positive bias stress-induced and positive bias illumination stress-induced instability degradation. The manufacturing process suggested that sidewall dielectric insulating layers are thin. In add...
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Veröffentlicht in: | IEEE electron device letters 2019-12, Vol.40 (12), p.1941-1944 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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