Trends in sputter yield data in the film deposition regime

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physical review. B, Condensed matter Condensed matter, 2000-03, Vol.61 (12), p.8516-8525
Hauptverfasser:	Mahan, John E., Vantomme, André
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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