Structural, Dielectric, and Interface Properties of Crystalline Barium Silicate Films on Si(100): A Robust High- κ Material

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physical review applied 2016-05, Vol.5 (5), Article 054006
Hauptverfasser:	Islam, S., Hofmann, K. R., Feldhoff, A., Pfnür, H.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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