Foundations of atomic-level plasma processing in nanoelectronics

This article discusses key elementary surface-reaction processes in state-of-the-art plasma etching and deposition relevant to nanoelectronic device fabrication and presents a concise guide to the forefront of research on plasma-enhanced atomic layer etching (PE-ALE) and plasma-enhanced atomic layer...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Plasma sources science & technology 2022-10, Vol.31 (10), p.103002
Hauptverfasser:	Arts, Karsten, Hamaguchi, Satoshi, Ito, Tomoko, Karahashi, Kazuhiro, Knoops, Harm C M, Mackus, Adriaan J M, (Erwin) Kessels, Wilhelmus M M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	nanoelectronics plasma processing plasma surface interaction
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!