Plasma analysis of inductively coupled impulse sputtering of Cu, Ti and Ni

Inductively coupled impulse sputtering (ICIS) is a new development in the field of highly ionised pulsed PVD processes. For ICIS the plasma is generated by an internal inductive coil, replacing the need for a magnetron. To understand the plasma properties, measurements of the current and voltage wav...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Plasma sources science & technology 2017-05, Vol.26 (6), p.65012
Hauptverfasser:	Loch, D A L, Gonzalvo, Y Aranda, Ehiasarian, A P
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	I-PVD ICIS IEDF magnetron free sputtering OES pulsed plasma
Online-Zugang:	Volltext
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