Reaction of Implanted N Isotope with SiO 2 Near Si 3 N 4 -Film and SiO 2 -Substrate Interface

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of nuclear science and technology 2006-04, Vol.43 (4), p.382-385
Hauptverfasser:	SHINDE, Ninad, MATSUNAMI, Noriaki, FUKUOKA, Osamu, TAZAWA, Masato, SHIMURA, Tetsuo, CHIMI, Yasuhiro, SATAKA, Masao
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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