Micro-machined deep silicon atomic vapor cells

Using a simple and cost-effective water jet process, silicon etch depth limitations are overcome to realize a 6 mm deep atomic vapor cell. While the minimum silicon feature size was limited to a 1.5 mm width in these first generation vapor cells, we successfully demonstrate a two-chamber geometry by...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 2022-10, Vol.132 (13)
Hauptverfasser:	Dyer, S., Griffin, P. F., Arnold, A. S., Mirando, F., Burt, D. P., Riis, E., McGilligan, J. P.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied physics Chambers Hydraulic jets Interrogation Micromachining Silicon Vapor density
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!