Ion impact energy distribution and sputtering of Si and Ge

The spatial distribution of ion deposited energy is often assumed to linearly relate to the local ion-induced sputtering of atoms from a solid surface. This-along with the assumption of an ellipsoidal region of energy deposition-is the central mechanism used in the Bradley and Harper [J. Vac. Sci. T...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 2012-05, Vol.111 (10), p.103513-103513-6
Hauptverfasser:	Hossain, M. Z., Freund, J. B., Johnson, H. T.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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