Luminescence from plasma deposited silicon films

We report the observation of room-temperature and low-temperature visible photoluminescence from nanocrystalline silicon (nc-Si) thin films produced by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) through a gas discharge containing SiH4 diluted in Ar and H2. The nanocrystalline silicon films we...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 1997-03, Vol.81 (5), p.2410-2417
Hauptverfasser:	Edelberg, Erik, Bergh, Sam, Naone, Ryan, Hall, Michael, Aydil, Eray S.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!