Semiconducting rhenium silicide thin films on Si(111)
The crystallographic, electronic, and optical properties of thin ReSi2 films (∼20–300 Å) have been investigated in situ by low energy electron diffraction (LEED) and photoelectron spectroscopy (XPS and UPS), ex situ by glancing incidence x-ray diffraction (GIXD), and optical absorption measurements....
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 1995-03, Vol.77 (6), p.2514-2518 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!