Elastic constants and thermal expansion coefficient of metastable C49 TiSi2

The elastic constants and thermal expansion coefficient of C49 TiSi2 thin films have been investigated by in situ curvature measurement during heat treatment and ex situ x-ray diffraction measurements. The C49 TiSi2 compound was formed from Ti-Si multilayers deposited on monocrystalline silicon and...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of applied physics 1993-03, Vol.73 (6), p.2816-2820
Hauptverfasser: JONGSTE, J. F, LOOPSTRA, O. B, JANSSEN, G. C. A. M, RADELAAR, S
Format: Artikel
Sprache:eng
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