High-resistivity GaSb grown by molecular-beam epitaxy
GaSb undoped layers grown by molecular-beam epitaxy on GaSb or on semi-insulating GaAs substrates at temperatures between 600 and 630 °C are shown to have carrier concentrations in the low 1013 cm−3 range, corresponding to almost intrinsic conditions. The materials have been characterized using curr...
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Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 1992-08, Vol.72 (4), p.1316-1319 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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