The effect of ion beam treatment and subsequent annealing on Au/GaAs contacts
The effect of Xe++ and Ar+ ion beam treatment and subsequent annealing on the Au (55 nm)/n-GaAs system was studied using cross-sectional transmission electron microscopy. The maximum depth of observed defects caused by Xe++ ions (700 keV, 1×1014 ions/cm2) was about 400 nm from the interface in excel...
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Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 1992-04, Vol.71 (7), p.3408-3413 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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