The effect of ion beam treatment and subsequent annealing on Au/GaAs contacts

The effect of Xe++ and Ar+ ion beam treatment and subsequent annealing on the Au (55 nm)/n-GaAs system was studied using cross-sectional transmission electron microscopy. The maximum depth of observed defects caused by Xe++ ions (700 keV, 1×1014 ions/cm2) was about 400 nm from the interface in excel...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of applied physics 1992-04, Vol.71 (7), p.3408-3413
Hauptverfasser: PECZ, B, RADNOCZI, G, HORVATH, Z. J, BARNA, P. B, JAROLI, E, GYULAI, J
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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