Stability of C49 and C54 phases of TiSi2 under ion bombardment
The transformation of C49 phase TiSi2 to the low resistivity C54 phase is necessary for many microelectronic applications. Here, we report on attempts to decrease this transformation temperature by low-energy ion bombardment at elevated temperature. Ion irradiation was performed using a broad beam K...
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Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 1991-09, Vol.70 (5), p.2660-2666 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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