The surface potential of GaN:Si
The surface potential of GaN:Si, of fundamental interest for knowledge of the electrostatic potential and electric field strength, is determined for Si doping in the device relevant range from 6 × 10 17 cm − 3 to 2.3 × 10 19 cm − 3 , in layers grown by low-pressure metal-organic vapor-phase epit...
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Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 2008-01, Vol.103 (2), p.023706-023706-5 |
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Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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