Three-dimensional atomic-scale mapping of Pd in Ni1−xPdxSi∕Si(100) thin films

Atom-probe tomography was utilized to map the three-dimensional distribution of Pd atoms in nickel monosilicide thin films on Si(100). A solid-solution Ni0.95Pd0.05 film on a Si(100) substrate was subjected to rapid thermal processing plus steady-state annealing to simulate the thermal processing ex...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 2007-09, Vol.91 (11)
Hauptverfasser: Kim, Yeong-Cheol, Adusumilli, Praneet, Lauhon, Lincoln J., Seidman, David N., Jung, Soon-Yen, Lee, Hi-Deok, Alvis, Roger L., Ulfig, Rob M., Olson, Jesse D.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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