Electron-beam-induced deformations of SiO2 nanostructures

The imaging beam of a transmission electron microscope can be used to fine tune critical dimensions in silicon oxide nanostructures. This technique is particularly useful for the fabrication of nanopores with single-nanometer precision, down to 2 nm. We report a detailed study on the effect of elect...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 2005-07, Vol.98 (1)
Hauptverfasser:	Storm, A. J., Chen, J. H., Ling, X. S., Zandbergen, H. W., Dekker, C.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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