Behavior of Ultrathin Zirconium Films upon Exposure to Oxygen
Discontinuous films of zirconium, having surface resistivities between 104 and 106 Ω sq−1, were deposited on glass substrates in ultrahigh vacuum and then exposed to oxygen pressures in the range of 5×10−7 to 4×10−8 Torr at temperatures of 25° and −196°C. The change in film resistance with time was...
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Veröffentlicht in: | J. Appl. Phys., 38: 2223-31(Apr. 1967) 38: 2223-31(Apr. 1967), 1967-01, Vol.38 (5), p.2223-2231 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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