Behavior of Ultrathin Zirconium Films upon Exposure to Oxygen

Discontinuous films of zirconium, having surface resistivities between 104 and 106 Ω sq−1, were deposited on glass substrates in ultrahigh vacuum and then exposed to oxygen pressures in the range of 5×10−7 to 4×10−8 Torr at temperatures of 25° and −196°C. The change in film resistance with time was...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:J. Appl. Phys., 38: 2223-31(Apr. 1967) 38: 2223-31(Apr. 1967), 1967-01, Vol.38 (5), p.2223-2231
1. Verfasser: Fehlner, Francis P.
Format: Artikel
Sprache:eng
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