Quantum chemical study of the mechanism of aluminum oxide atomic layer deposition

The atomic layer deposition of alumina using water and trimethylaluminum is investigated using the density functional theory. The atomistic mechanisms of the two deposition half-cycles on Al–CH3* and Al–OH* surface sites are investigated. Both half-cycle reactions proceed through the formation of an...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Applied physics letters 2002-05, Vol.80 (18), p.3304-3306
Hauptverfasser:	Widjaja, Yuniarto, Musgrave, Charles B.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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