Miscibility of amorphous ZrO2–Al2O3 binary alloy

Miscibility is a key factor for maintaining the homogeneity of the amorphous structure in a ZrO2–Al2O3 binary alloy high-k dielectric layer. In the present work, a ZrO2/Al2O3 laminate thin layer has been prepared by atomic layer chemical vapor deposition on a Si (100) wafer. This layer, with artific...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Applied physics letters 2002-04, Vol.80 (13), p.2374-2376
Hauptverfasser:	Zhao, C., Richard, O., Bender, H., Caymax, M., De Gendt, S., Heyns, M., Young, E., Roebben, G., Van Der Biest, O., Haukka, S.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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