Instrument for the in situ measurement of depositing particles

Contaminant particles peculiar to a type of equipment emanate inside and around a semiconductor, or thin-film-transistor–liquid-crystal-display device fabrication front-end equipment. To analyze such deposition phenomena and implement contamination control measures, it is necessary to observe in sit...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Review of scientific instruments 1997-08, Vol.68 (8), p.3161-3167
Hauptverfasser: Tsuchiya, Masayoshi, Takami, Katsumi
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!