Deposition of tin sulfide thin films from tin(IV) thiolate precursors

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of materials chemistry 2001, Vol.11 (2), p.464-468
Hauptverfasser:	BARONE, Giampaolo, HIBBERT, Tom G, MAHON, Mary F, MOLLOY, Kieran C, PRICE, Louise S, PARKIN, Ivan P, HARDY, Amanda M. E, FIELD, Mark N
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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