Dual function of precisely modified hydroxy-PS- b -PMMA as neutral layers and thin films for perpendicularly oriented lamella
We propose a facile and fast control method to obtain perpendicularly oriented microphase-separated structures in block copolymer (BCP) thin films for nanopatterning with a BCP lithography technique. By synthesizing a derivative of polystyrene- block -poly(methyl methacrylate) (PS- b -PMMA) with pre...
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Veröffentlicht in: | RSC applied interfaces 2025 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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