Wafer-Scale High-Throughput Ordered Growth of Vertically Aligned ZnO Nanowire Arrays
This article presents an effective approach for patterned growth of vertically aligned ZnO nanowire (NW) arrays with high throughput and low cost at wafer scale without using cleanroom technology. Periodic hole patterns are generated using laser interference lithography on substrates coated with the...
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Veröffentlicht in: | Nano letters 2010-09, Vol.10 (9), p.3414-3419 |
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Hauptverfasser: | , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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