Generally Applicable Self-Masked Dry Etching Technique for Nanotip Array Fabrication
Well-aligned nanotip arrays were fabricated by electron cyclotron resonance (ECR) plasma process using gas mixtures of silane, methane, argon, and hydrogen. The resultant tips have nanoscale apexes (∼1 nm) with high aspect ratios (∼50), which were achieved by simultaneous SiC nanomask formation and...
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Veröffentlicht in: | Nano letters 2004-03, Vol.4 (3), p.471-475 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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