Fabrication of the Pattern of Copper Nanowires with Adjustable Density on Oxidized Si Substrate

We report a method of combining of ultrathin liquid layer electrodeposition with chemical microetching, to fabricate the pattern of ultralong (L > 100 μm) copper nanowires with adjustable density on a two-dimensional oxidized Si substrate. In the electrodeposition process, we employ a periodic va...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of physical chemistry. C 2009-12, Vol.113 (51), p.21303-21307
Hauptverfasser:	Liu, Chang, Yao, Binbin, Wang, Shuangming, Tian, Huifang, Zhang, Mingzhe
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	C: Nanops and Nanostructures
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!