Microdisk-Type Multicolor Semipolar Nitride-Based Light-Emitting Diodes
Recently, III-nitride semiconductors have gained immense attention for application in high-performance optoelectronic devices. However, in the device fabrication process, it is essential to develop a wet-etching process for conventional polar nitride-based devices to reduce the dry-etching damage. I...
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Veröffentlicht in: | ACS applied nano materials 2022-07, Vol.5 (7), p.9334-9343 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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