Sequential Feature-Density Doubling for Ultraviolet Plasmonics

Patterning of nanostructures with sub-200 nm periodicities over cm2-scale areas is challenging using standard approaches. This paper demonstrates a scalable technique for feature-density doubling that can generate nanopatterned lines with periodicities down to 100 nm covering >3 cm2. We developed...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	ACS applied materials & interfaces 2017-10, Vol.9 (39), p.33554-33558
Hauptverfasser:	Knudson, Michael P, Hryn, Alexander J, Huntington, Mark D, Odom, Teri W
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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