Effect of Oxygen Plasma on β-Ga 2 O 3 Deep Ultraviolet Photodetectors Fabricated by Plasma-Assisted Pulsed Laser Deposition

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	ACS applied electronic materials 2023-05, Vol.5 (5), p.2590-2597
Hauptverfasser:	Kim, Taeyoung, Kim, Yoonsok, Jeong, Won Chae, Jeong, Mun Seok, Kim, Eun Kyu
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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