Diamine Adduct of Cobalt(II) Chloride as a Precursor for Atomic Layer Deposition of Stoichiometric Cobalt(II) Oxide and Reduction Thereof to Cobalt Metal Thin Films

In this paper, we introduce a new Co precursor for the atomic layer deposition (ALD) of Co metal and other Co containing materials. CoCl2(TMEDA) (TMEDA = N,N,N′,N′-tetramethylethylenediamine) is a diamine adduct of cobalt­(II) chloride that is inexpensive and easy to synthesize, making it an industr...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Chemistry of materials 2018-05, Vol.30 (10), p.3499-3507
Hauptverfasser:	Väyrynen, Katja, Hatanpää, Timo, Mattinen, Miika, Heikkilä, Mikko, Mizohata, Kenichiro, Meinander, Kristoffer, Räisänen, Jyrki, Ritala, Mikko, Leskelä, Markku
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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