Formation of Crystallographically Oriented Metastable Mg 1.8 Si in Mg Ion-Implanted Si

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Crystal growth & design 2019-12, Vol.19 (12), p.7138-7142
Hauptverfasser:	Kobayashi, Yuki, Naito, Muneyuki, Sudoh, Koichi, Gentils, Aurélie, Bachelet, Cyril, Bourçois, Jérôme
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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