High-Efficiency Doping Outcomes in Homoepitaxial β-Ga 2 O 3 Films via Pulsed Si Doping with MOCVD

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Crystal growth & design 2024-10, Vol.24 (19), p.8101-8111
Hauptverfasser: Wang, Yao, Feng, Qian, Wu, Wenkai, Liu, Yuhong, Zhang, Yachao, Zhang, Jincheng, Hao, Yue
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1528-7483
1528-7505
DOI:10.1021/acs.cgd.4c01049