High mobility and productivity of flexible In2O3 thin-film transistors on polyimide substrates via atmospheric pressure spatial atomic layer deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied surface science 2024-02, Vol.646, p.158950, Article 158950
Hauptverfasser:	Yoo, Kwang Su, Lee, Chi-Hoon, Kim, Dong-Gyu, Choi, Su-Hwan, Lee, Won-Bum, Park, Chang-Kyun, Park, Jin-Seong
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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