Maskless nonlinear lithography with femtosecond laser pulses

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics. A, Materials science & processing Materials science & processing, 2006, Vol.82 (1), p.23-26
Hauptverfasser: KOCH, J, FADEEVA, E, ENGELBRECHT, M, RUFFERT, C, GATZEN, H. H, OSTENDORF, A, CHICHKOV, B. N
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0947-8396
1432-0630
DOI:10.1007/s00339-005-3418-7