Exploration of the ultimate patterning potential achievable with high resolution focused ion beams

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics. A, Materials science & processing Materials science & processing, 2005, Vol.80 (1), p.187-194
Hauptverfasser:	GIERAK, J, MAILLY, D, JAMET, J.-P, FERRE, J, MOUGIN, A, CHAPPERT, C, MATHET, V, WARIN, P, CHAPMAN, J, HAWKES, P, JEDE, R, BRUCHHAUS, L, BARDOTTI, L, PREVEL, B, MELINON, P, PEREZ, A, HYNDMAN, R
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Nanoscale materials and structures: fabrication and characterization Other topics in nanoscale materials and structures Physics Surface treatments
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