Growth kinetics of low-temperature oxide films on silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of Engineering Physics 1974-10, Vol.27 (4), p.1287-1289
Hauptverfasser:	Gurskii, L. I., Koleshko, V. M., Reznikov, B. S., Nekaryukin, I. V., Kovalevskii, A. A.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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