Novel aspects of oxygen diffusion in silicon
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of materials science. Materials in electronics 1996-10, Vol.7 (5) |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | |
---|---|
ISSN: | 0957-4522 1573-482X |
DOI: | 10.1007/BF00185929 |