Novel aspects of oxygen diffusion in silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of materials science. Materials in electronics 1996-10, Vol.7 (5)
Hauptverfasser: Binns, M.J., Londos, C.A., McQuaid, S.A., Newman, R.C., Semaltianos, N.G., Tucker, J.H.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0957-4522
1573-482X
DOI:10.1007/BF00185929