Glass Surface Atomic Structure after Technological Treatments
Ultrasoft X-ray reflectometry was used to estimate the effects of surface technological treatments (mechanical and chemical polishing, laser annealing) on the atomic short-range order coordination of silicon atoms in the near-surface region of SiO 2-based glass. The fine structure of reflection spec...
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Veröffentlicht in: | Journal of colloid and interface science 1995-02, Vol.169 (2), p.361-364 |
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Hauptverfasser: | , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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