Investigation of the interaction of precipitating nickel (II) hydroxide with silica surfaces by rutherford back scattering (RBS)

Rutherford Back Scattering (RBS) has been applied in combination with Scanning Electron Microscopy (SEM) to investigate the interaction of precipitatig nickelhydroxide with quartz surfaces. It was found that hydroxylation of the quartz surface is a prerequisite for the formation of a weakly adhering nickelhydrosilicate layer. On a fire‐polished quartz surface no reaction with the quartz took place, a very weakly adhering nickelhydroxide layer being deposited. When the nickelhydroxide was precipitated in the presence of finely divided suspended silica, the precipitating nickel ions appeared to react preferently with the small reactive silica particals. It is shown that these results agree well with literature data. RBS together with SEM appeared to be a powerfull technique for studying these surface reactions. Untersuchung der Wechselwirkung von gefälltem Nickel(II)‐hydroxid mit SiO2‐Oberflächen durch Rutherford‐Streuung Rutherford‐Streuung (RBS) wurde in Kombination mit der Rasterelektronenmikroskopie (SEM) zur Untersuchung der Wechselwirkung von gefälltem Nickelydroxid mit Quarzoberflächen angewandt. Die Hydroxylierung der Quarzoberfläche ist eine Voraussetzung für die Bildung einer schwach haftenden Nickelhydrosilicatschicht. An feuerpolierten Quarzoberflächen erfolgt keine Reaktion, nur eine sehr schwach haftende Nickelhydroxidschicht wird angelagert. Wenn jedoch das Nickelhydroxid in Gegenwart von feinverteiltem suspendiertem Siliciumdioxid gefällt wird, scheinen die gefällten Nickelionen bevorzugt mit den kleinen reaktiven SiO2‐Teilchen zu reagieren. Die erhaltenen Ergebnisse stimmen gut mit Literaturangaben überein. Die Kombination von RBS und SEM scheint eine sehr gute Technik für die Untersuchung solcher Oberflächenreaktinen zu sein.